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在實驗室樣品前處理環(huán)節(jié)，微量研磨對儀器的材質(zhì)、結(jié)構(gòu)與表面處理提出了很高要求。ITOH伊藤制作所的WS-1研體缽正是針對這一需求開發(fā)的高精度產(chǎn)品，其核心優(yōu)勢體現(xiàn)在材料選擇和微觀結(jié)構(gòu)控制兩方面。WS-1采用高純氧化鋁陶瓷（Al?O?≥99%），具備接近金剛石的硬度（莫氏硬度9級），在耐磨損和抗化學(xué)腐蝕方面顯著優(yōu)于傳統(tǒng)玻璃或瑪瑙研缽。陶瓷的孔隙率控制在0.1%以下，從微觀層面減少了樣品滲透與殘留風(fēng)險，這對于痕量元素分析和食品安全檢測尤為重要。內(nèi)表面經(jīng)過鏡面級拋光，粗糙度Ra≤0.2...

玉崎現(xiàn)貨ITOHLP-4/2與LP-4共享同一主機框架、傳動系統(tǒng)（400/750W電機，轉(zhuǎn)盤≤370rpm）與外形尺寸（W500×D700×H600mm，~110kg），區(qū)別僅在于出廠掛座配置為2個研磨罐工位（其余對稱位置裝平衡配重塊）。標(biāo)準(zhǔn)適配70mL/80mL罐，亦可換250mL掛具，用戶可按需在兩工位裝罐，其余位加固平衡塊運行。技術(shù)邏輯是：很多實驗室并不需要每次滿負(fù)荷四罐，而雙罐配置可降低初次采購成本，同時保留未來升級彈性——LP-4/2的轉(zhuǎn)盤孔位與LP-4一致，后續(xù)只...

玉崎現(xiàn)貨ITOHLP-4是典型的四工位行星旋轉(zhuǎn)球磨機，轉(zhuǎn)盤可同時安裝4個研磨容器，標(biāo)準(zhǔn)罐容70mL或80mL、亦可配250mL等尺寸（依掛座），轉(zhuǎn)盤最高轉(zhuǎn)速約370rpm，由400W/750W變速電機驅(qū)動，適用于需要同期平行處理的無機/有機/植物樣品粉碎、分散與混合。其運動形式為旋轉(zhuǎn)臺與研磨容器反向等速或固定比旋轉(zhuǎn)，四罐對稱分布保證動平衡，允許滿載高速運行而振動可控。技術(shù)參數(shù)：電源AC100V或200V單相；電子計時0–99h59min；數(shù)字轉(zhuǎn)速/轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)數(shù)顯示；外形約W500...

玉崎現(xiàn)貨ITOHLP-1是該系列中獨特的單罐機型，轉(zhuǎn)盤與單個研磨容器以相同速度反向旋轉(zhuǎn)（公轉(zhuǎn):自轉(zhuǎn)≈1:2），離心加速度可達(dá)約20g，適合研發(fā)階段極少量珍貴樣品的微納米粉碎、混合與分散。與LP-4/LP-M2的多罐對稱布局不同，LP-1采用單罐懸掛結(jié)構(gòu)，避免了多罐質(zhì)量誤差引起的動平衡問題，也令操作者可用不同材質(zhì)罐輪流實驗而無需配對重量。LP-1提供三種標(biāo)準(zhǔn)罐容：80mL、250mL、500mL；其中80mL罐可雙層堆疊使用（2個），若僅裝1個80mL罐須加配平衡墊片保證旋轉(zhuǎn)平...

玉崎現(xiàn)貨ITOHLP-M2是伊藤制作所LP-M系列中面向?qū)嶒炇椅⒘繕悠费心サ某匦托行切D(zhuǎn)球磨機，與LP-M2C（冷卻型）、LP-M2H（加熱型）共享同一機械平臺，但在溫控模塊上去除了強制冷卻/加熱組件，結(jié)構(gòu)更簡潔、重量更輕（約30kg），整機尺寸約W500×D300×H350mm，適合桌面并排布置。其運動學(xué)原理仍為：轉(zhuǎn)盤公轉(zhuǎn)與研磨罐自轉(zhuǎn)反向同速或按固定傳動比（通常1:2），罐內(nèi)研磨球在合成離心場中作復(fù)雜軌跡運動，對物料實施高能碰撞破碎與剪切細(xì)化。LP-M2標(biāo)準(zhǔn)搭載2×45m...

玉崎現(xiàn)貨日本伊藤制作所（ITOH）的LP-M2C屬于LP-M2系列的冷卻型派生機型，核心差異在于整機集成了強制冷卻結(jié)構(gòu)，可在行星高能研磨過程中將研磨罐溫度穩(wěn)定控制在20–40℃區(qū)間，從而避免摩擦熱導(dǎo)致的樣品熱變性。其基礎(chǔ)運動機構(gòu)仍為經(jīng)典行星式：轉(zhuǎn)盤公轉(zhuǎn)最高約500rpm，研磨罐同向或反向自轉(zhuǎn)最高約1000rpm，公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速比通常為1:2，使罐內(nèi)研磨球在離心力、科里奧利力共同作用下形成高能湍流運動，對樣品產(chǎn)生碰撞、剪切、摩擦三重粉碎作用。LP-M2C的標(biāo)準(zhǔn)配置為2×45mL...

XC-500BF與XC-500B共享相同光譜特性（300～780nm含UV，IR削減約80%，Ra≈96，色溫≈5500K），核心區(qū)別在于光學(xué)濾光片改為Frost（磨砂/乳白擴(kuò)散）玻璃，經(jīng)多次內(nèi)散射形成柔和均勻光斑——光束角擴(kuò)至約72°，中心光強降至約12600cd但照度分布均勻性顯著提升。此特性使其非常適用于需均勻含UV照射之較大面積樣品，如A4幅面光伏迷你組件初測、光敏材料板狀試樣耐候比對、培養(yǎng)皿中細(xì)胞/藻類之平行光照實驗及博物館展柜模擬含UV日光（需控劑量）的效果預(yù)覽。...

XC-500B設(shè)計目標(biāo)為"盡可能保留晴天太陽光中之近紫外+可見成分，同時削減過量紅外熱輻射"，選用高通濾光片使300～780nm波段透過（含UV-A，部分能量可達(dá)UV-B閾值附近），紅外區(qū)（＞780nm）衰減約80%。與EF型（350～2500nm全紅外保留）不同，B型更適合不希望試樣本體被加熱但仍需UV成分的情景——例如高分子材料的UV黃變初評、UV固化油墨之引發(fā)波長兼容性檢查、某些光敏植物的補光栽培研究等。聚光配置（透明濾光片、60°光束角、26000cd）使距燈300m...

XC-500CF屬于SOLAX500W家族中具有"分光（Stroboscopic/Flash）功能"的特殊衍生型。其電源控制單元內(nèi)建時間控制電路，允許使用者將氙燈從連續(xù)直流點燈切換為脈沖/閃光模式，閃光持續(xù)時間（分光時間）可在1/60s～4s范圍連續(xù)或步進(jìn)調(diào)節(jié)，最短閃光間隔約0.2秒，且在短時分光（≤1/2s）條件下允許多次連續(xù)增光。這一特性使之區(qū)別于普通穩(wěn)態(tài)太陽模擬器，可對光響應(yīng)過程進(jìn)行時間維度控制。光學(xué)上CF通常配Frost濾光片（同C系列），光束角約72°、中心光強12...

XC-500AF在硬件架構(gòu)上與XC-500A相同，關(guān)鍵差異為濾光片允許300nm以上UV-A波段透過（部分機型可延展含微量UV-B），同時仍壓制80%紅外熱輻射，出射波段300～780nm。這一設(shè)計回應(yīng)了兩方面的專業(yè)需求：一是某些生物樣本（如皮膚細(xì)胞光毒性初篩、維生素D合成研究）需要微量近紫外成分始具生理相關(guān)性；二是高級染料、熒光增白劑檢驗需在含UV條件下觀察熒光反應(yīng)，純可見光光源會導(dǎo)致漏判。技術(shù)上AF型標(biāo)配透明濾光片（聚光約60°），若需均勻漫射可選BF型。Ra≈96仍維持...

SERIC索萊克SOLAX系列XC-500A是人造太陽光模擬光源中專門用于「準(zhǔn)確辨色」的基礎(chǔ)型號。其核心技術(shù)在于采用500W短弧氙燈為發(fā)光體，配合精密拋物面反射鏡與選擇性吸收濾光片，將出射光譜整形為370～780nm——主動濾除300～370nm紫外波段（避免被照樣品發(fā)生光退化）并削減約80%紅外熱射線（降低被測物溫升），使可見光區(qū)光譜功率分布（SPD）與CIE標(biāo)準(zhǔn)照明體D55/D65（晴天中午太陽光）高度吻合。顯色指數(shù)Ra≈98意味著就絕大多數(shù)物體表面反射色而言，人眼感知顏...

SLG-150V-UV是REVOXSLG-150V基礎(chǔ)光纖光源裝置的紫外變種，專用于機器視覺系統(tǒng)中需近紫外（NUV）照明的缺陷檢測與熒光觀測場合。該機型采用進(jìn)口GaN基紫外LED，峰值波長提供365nm（近UV-A）、385nm及405nm（violet）三種規(guī)格，其中365nm版本經(jīng)常用于熒光激發(fā)（如YAG基熒光粉、某些有機黏合劑、指紋油脂、微量油污的自熒光效應(yīng)），405nm則在需要較高穿透力兼顧一定熒光效應(yīng)且人眼可輔助對焦的場景中被選用。光能通過大芯徑石英光纖（兼容?8～...